磁控濺射設備原理與應用:全面解析
發布時間:2025-05-12

磁控濺射是一種常見的薄膜沉積技術,廣泛應用于材料科學、半導體、光電子以及光學涂層等領域。磁控濺射設備通過高能粒子撞擊靶材,使靶材原子或分子逸出,沉積在基板上,形成薄膜。一、磁控濺射原理磁控濺射設備的核心原理是通過磁場增強濺射過程。濺射是指當高能粒子(通常為氬氣離子)撞擊固體材料表...

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    發布時間:2021-11-08
  • 2021年9月27日-29日,第十九屆北京分析測試學術報告會暨展覽會(BCEIA2021)在北京中國國際展覽中心新館隆重召開,經過多年的發展,已經成為頗具影響力的行業事件。國內外儀器企業齊聚北京共襄盛舉,成為一年一度不容錯過的行業大聚會。2021年Evoqua懿華推出了UltraClearTPED系列產品,與原有產品相比,UltraCleaTPED系列現在標配電子分配器可以精確體積的控制分配您的超純水,流量高達2l/min。新改進的軟件更加直觀,可以輕松地分配超純水。新的打印...

    發布時間:2021-10-14
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